ZnS薄膜制备及性能研究开题报告

 2024-07-04 23:53:56

1. 本选题研究的目的及意义

硫化锌(zns)作为一种重要的Ⅱ-Ⅵ族化合物半导体材料,具有禁带宽度宽、激子束缚能大、透光率高等优点,在光电子器件领域有着广泛的应用前景。

近年来,随着材料科学和制备技术的不断发展,zns薄膜的制备及其性能研究受到了国内外学者的广泛关注。

本选题旨在通过对zns薄膜制备工艺参数的优化,获得性能优异的zns薄膜,并对其性能进行表征和分析,为zns薄膜在光电器件领域的应用提供理论依据和技术支持。

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2. 本选题国内外研究状况综述

zns薄膜作为一种重要的半导体材料,其制备和性能研究一直受到国内外学者的广泛关注。

近年来,随着薄膜制备技术的发展和应用需求的不断提高,zns薄膜的研究更是取得了许多重要进展。

1. 国内研究现状

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3. 本选题研究的主要内容及写作提纲

1. 主要内容

1.zns薄膜的制备:a.研究不同制备方法,如磁控溅射、化学浴沉积、溶胶-凝胶法等,比较其优缺点及适用范围;b.针对选定的制备方法,优化关键工艺参数,如沉积温度、沉积时间、反应气体流量比等,以获得性能优异的zns薄膜。

2.zns薄膜的结构和形貌表征:a.利用x射线衍射(xrd)分析zns薄膜的晶体结构、晶粒尺寸、结晶取向等;b.利用扫描电子显微镜(sem)观察zns薄膜的表面形貌、断面结构等;c.研究不同制备工艺参数对zns薄膜结构和形貌的影响。

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4. 研究的方法与步骤

本研究将采用以下方法和步骤:1.文献调研:查阅国内外相关文献,了解zns薄膜的制备方法、性能特点、应用领域以及最新研究进展,为本研究提供理论基础和实验参考。

2.材料选择与处理:根据研究目的和实验方案,选择合适的zns薄膜制备原料和衬底材料,并对其进行必要的预处理,如清洗、干燥等。

3.薄膜制备:采用一种或多种薄膜制备方法,如磁控溅射、化学浴沉积、溶胶-凝胶法等,制备zns薄膜。

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5. 研究的创新点

本研究的创新点在于:1.系统研究不同制备工艺参数对zns薄膜结构、形貌、光学和电学性能的影响规律,为zns薄膜的性能调控提供理论指导。

2.探索新的zns薄膜制备方法,或对现有制备方法进行改进,以期获得性能更优异的zns薄膜。

3.将zns薄膜应用于新型光电器件,如太阳能电池、传感器等,探索其应用潜力。

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6. 计划与进度安排

第一阶段 (2024.12~2024.1)确认选题,了解毕业论文的相关步骤。

第二阶段(2024.1~2024.2)查询阅读相关文献,列出提纲

第三阶段(2024.2~2024.3)查询资料,学习相关论文

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7. 参考文献(20个中文5个英文)

1.张鹏,周华,王晓峰,等.磁控溅射法制备zns薄膜及其光学性能研究[j].功能材料,2018,49(8):8106-8110.

2.李亮,王建强,张倩,等.不同硫源制备zns薄膜及其性能比较[j].人工晶体学报,2019,48(10):1944-1949.

3.王晓丽,李文静,张丽,等.zns薄膜制备工艺研究进展[j].材料导报,2017,31(s1):20-24.

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